浙江晶片湿法清洗设备
湿法设备包括湿法制绒设备（Perc 工艺）、制绒设备（Topcon工艺）、湿法刻蚀设备（Perc 工艺）、RCA槽式清洗设备（Topcon工艺）、电池湿法背抛清洗设备（Topcon工艺）、湿法制绒设备（HJT工艺）、电池湿法背抛清洗设备（XBC工艺）、制绒清洗设备（XBC工艺）等；釜川生产制造的湿法设备能与多种主流工艺如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在设备结构、功能、产能和安全性等方面进行了升级。其作用是对太阳能电池用硅片进行清洗制绒处理，从而提升电池的质量和效率。湿法刻蚀设备（Perc 工艺）抛光槽：上表面采用水膜保护及辊轮带液方式，完整的保护正面的同时。浙江晶片湿法清洗设备
湿法制绒清洗设备在安全性方面，设备主要结构采用阻燃或不燃材料，确保安全可靠。进风离子风扇和去静电环提供双重保护，加热部件则采用多重相异方式保护，从而降低了安全风险。大功率工业热水机可以加快配槽速度，通过优化程序实现能耗平衡。阶梯节水和新型工艺槽换热进水加温结构，有效降低了能耗，从而降低了电池生产成本。光伏电池湿法制绒设备，与多种主流工艺如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在设备结构、功能、产能和安全性等方面进行了升级。其作用是对太阳能电池用硅片进行清洗制绒处理，从而提升电池的质量和效率。合肥光伏湿法清洗设备电池湿法设备配合先进的干燥技术，可有效去除电池浆料中的水分和其他杂质，提高电极的干燥效果。
湿法工艺是一种化学反应过程，其中使用的催化剂是用于促进反应速率的物质。在湿法工艺中，催化剂的作用是加速化学反应的速率，从而提高生产效率和降低生产成本。在湿法工艺中，常用的催化剂包括酸、碱、氧化剂、还原剂等。其中，酸催化剂是常用的一种，它可以促进酸碱中和反应、酯化反应、酰胺化反应、烷基化反应等。常用的酸催化剂包括硫酸、盐酸、磷酸等。碱催化剂也是湿法工艺中常用的一种催化剂，它可以促进酯化反应、酰胺化反应、酰化反应等。常用的碱催化剂包括氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠等。氧化剂和还原剂也是湿法工艺中常用的催化剂，它们可以促进氧化反应、还原反应等。常用的氧化剂包括过氧化氢、高锰酸钾等，常用的还原剂包括亚硫酸钠、硫酸亚铁等。总之，湿法工艺中使用的催化剂种类繁多，不同的反应需要不同的催化剂来促进反应速率。在实际应用中，需要根据具体的反应条件和要求选择合适的催化剂。
电池湿法设备Topcon工艺，抛清洗设备，功能是去除背面BSG和抛光处理。l闭环运动控制系统，保证输送机构运动平稳性。l抛光槽：上表面采用水膜保护及辊轮带液方式，完整的保护正面的同时，对背面作抛光处理。l烘干槽：采用高压风机+高效过滤器的方式，l链式去BSG+槽式碱抛设备，设备产能大，稳定性好。l进口PLC控制，稳步提升设备的产能。l慢提拉采用机械臂慢提方式，设备满足干湿分离，匹配高效电池发展趋势。l可配套无金属化制程设备，提高设备洁净度。l工艺槽采用经典的内外槽的循环模式，能快速有效的将新添加药水以及添加剂充分搅拌均匀，槽内控温精度误差＜±1℃。湿法刻蚀设备（Perc 工艺）闭环运动控制系统，保证输送机构运动平稳性。
光伏电池湿法设备XBC工艺背抛清洗设备，功能l硅片抛光处理。优势：进口PLC控制，稳步提升设备的产能。l慢提拉采用机械臂慢提方式，设备满足干湿分离，匹配高效电池发展趋势。l可配套无金属化制程设备，提高设备洁净度。l工艺槽采用经典的内外槽的循环模式，能快速有效的将新添加药水以及添加剂充分搅拌均匀，槽内控温精度误差＜±1℃。l去除切割损伤层和表面脏污l使用强碱腐蚀晶体硅表面形成规则金字塔状绒面，增加硅片对太阳光的吸收，降低反射率l增加硅片表面积，进而PN结面积也相应增加。光伏电池湿法制绒设备（HJT工艺）机械手分配合理，有效避免药液交叉污染和槽体反应超时。北京新型湿法三头
湿法刻蚀设备（Perc 工艺）抛光槽：上表面采用水膜保护及辊轮带液方式，保护正面的同时，对背面作抛光处理。浙江晶片湿法清洗设备
电池湿法去PSG设备主要是对太阳能电池用硅片进行清洗处理，2022年成功研发双六道大产能去PSG清洗设备，并实现量产，结构稳定性、产能、安全性升级。去PSG工艺首先将绕扩层PSG进行去除，利用背面PSG保护，在槽式清洗中完成去绕度工艺。为寻求更为稳定的硅片传输，整机设计为双五道/双六道分布结构，料台归正宽度可调，兼容更多规格的硅片，并为后续18X硅片更大产能改造提供了预留窗口；去PSG设备布局前后通透，给设备使用者提供了便捷性；上料台搭配了大流量全新滴液泵；浙江晶片湿法清洗设备
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